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flag TSMC于2025年底开始大规模生产2nm芯片,使AI和移动装置的性能和效率大增。

flag TSMC于2025年4月在Koohsiung Fab 22号用第一代纳米晶体管开始大规模生产其2nm芯片。 flag N2工艺的性能比N3E 3nm节点高1015%或低2530%,晶体管密度超过15%。 flag 这一进展支持了对人工智能和移动设备中高效计算日益增长的需要。 flag TSMC正在开发N2P变体,预计2026年底大规模生产。

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