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flag ULVAC和SAL伙伴为大规模薄膜硝酸锂制造开发等离子蚀刻。

flag ULVAC和奥地利硅实验室(SAL)已合作开发大规模制造薄膜硝酸锂(TFLN)的等离子蚀刻工艺。 flag 这种材料由于效率高、损失低,对于先进的光学设备至关重要。 flag 该伙伴关系利用ULVAC的等离子蚀刻系统,旨在改善TFLN的整合和可扩展性,满足对更高数据通信量日益增加的需求。

5个月前
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